Síntesis y caracterización de películas de Co: Al2O3 y Ni:Al2O3 depositadas por AACVD con variación de concentración
Resumen
Se realizaron crecimientos de películas de óxidos metálicos de cobalto y de níquel combinadas con óxido de aluminio, sobre sustratos de aluminio, mediante la técnica de depósito químico de vapor asistido por aerosol a una temperatura de 400°C y con un ajuste en las concentraciones de las sales precursoras de los óxidos mencionados inicialmente. Las películas obtenidas de los óxidos de cobalto y níquel presentaron uniformidad y homogeneidad sobre todo el sustrato. Se realizaron mediciones de difracción de rayos x y espectros de energía dispersiva que confirmaron la presencia en las primeras muestras del óxido de cobalto y aluminio y en las muestras posteriores la presencia del óxido de níquel bunsenita, relacionadas con los porcentajes de las sales precursoras. Todas las muestras obtenidas presentaron valores de reflectancia inferiores al 40% en el rango de 300 a 1100 nm, llegando incluso a obtenerse muestras con valores de reflectancia óptica cercanas al 10% en el rango de 400 a 900 nm, lo que permitiría su aplicación como recubrimientos selectivos en piezas de colectores solares.
Citas
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Publicado
2024-12-09
Sección
Artículos de Investigación
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